[发明专利]钛靶材的溅射表面加工方法在审
| 申请号： | 201410794803.9 | 申请日： | 2014-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN105755435A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;李小萍 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 万铁占;骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种钛靶材的溅射表面加工方法，包括：对溅射表面进行第一进给，第一进给过程的进给量小于等于0.6mm；对溅射表面进行至少一次第二进给，至钛靶材厚度达到目标厚度，每次第二进给过程的进给量小于第一进给过程的进给量。在本方案中，第一进给过程的进给量小于等于0.6mm，小于现有技术的0.9mm的进给量，且第二进给过程的进给量小于第一进给过程的进给量，在第一、二进给过程作用在溅射表面的作用力较小，产生的应力层区域及厚度也较小。考虑到在靶材溅射过程的初期，会先溅射一些白片，在该过程中较薄的应力层能够被溅射掉，基本不会影响后续晶圆厚度分布均匀性。而且，第二进给能够逐步去除第一进给过程在溅射表面产生的应力层。 | ||
| 搜索关键词： | 钛靶材 溅射 表面 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种钛靶材的溅射表面加工方法，其特征在于，包括：对所述溅射表面进行一次第一进给，所述第一进给过程的进给量范围小于等于0.6mm；对所述溅射表面进行至少一次第二进给，至钛靶材厚度达到目标厚度，每次所述第二进给过程的进给量小于第一进给过程的进给量。
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