[发明专利]一种叠层太阳能电池的制备方法及其结构有效

专利信息
申请号: 201410758787.8 申请日: 2014-12-10
公开(公告)号: CN105742402B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 韩安军;张庆钊;彭东阳;顾世海;李琳琳 申请(专利权)人: 北京汉能创昱科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/02;H01L31/078
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 代理人: 彭秀丽,尹学清
地址: 102209 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种叠层太阳能电池的制备方法及其结构,采用P型单晶硅片制备太阳能电池;在衬底上制备背电极和牺牲层;在牺牲层上制备CIGS薄膜太阳能电池,然后分别在单晶硅电池的P型硅层和CIGS薄膜太阳能电池的窗口层上分别沉积金属键合层;将制备好的单晶硅电池上的金属键合层与CIGS太阳能电池表面的金属键合层进行金属键合;将键合后的单晶硅/CIGS叠层电池在常温下进行衬底的剥离;在单晶硅电池和CIGS电池上分别沉积电极,即得单晶硅/CIGS叠层太阳能电池。本发明采用剥离技术制备单晶硅/铜铟镓硒(CIGS)叠层太阳电池,首先分开制备单晶硅电池和CIGS薄膜太阳能电池,然后利用金属键合工艺制得叠层电池,其光电转换效率将比单晶硅电池提高5%‑20%。
搜索关键词: 一种 太阳能电池 制备 方法 及其 结构
【主权项】:
一种叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:步骤一、采用P型单晶硅片制备太阳能电池;步骤二、在衬底上制备背电极层;步骤三、在背电极层上制备牺牲层,所述牺牲层为NaF层;步骤四、在牺牲层上制备CIGS薄膜太阳能电池;步骤五、采用热蒸发或溅射的方法,分别在单晶硅电池的P型硅层和CIGS薄膜太阳能电池的窗口层上沉积金属键合层;步骤六、将制备好的单晶硅电池上的金属键合层与CIGS薄膜太阳能电池上的金属键合层进行金属键合;步骤七、将键合后的单晶硅/CI GS叠层电池在常温下进行所述衬底和背电极层的剥离;步骤八、在单晶硅电池的N+硅层上沉积金属电极;步骤九、在CIGS薄膜太阳能电池表面制备栅线电极;步骤十、采用蒸发法在叠层电池的上表面制备抗反射层,即得单晶硅/CI GS叠层太阳能电池。
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