[发明专利]一种叠层太阳能电池的制备方法及其结构有效
申请号: | 201410758787.8 | 申请日: | 2014-12-10 |
公开(公告)号: | CN105742402B | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 韩安军;张庆钊;彭东阳;顾世海;李琳琳 | 申请(专利权)人: | 北京汉能创昱科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/02;H01L31/078 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人: | 彭秀丽,尹学清 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种叠层太阳能电池的制备方法及其结构,采用P型单晶硅片制备太阳能电池;在衬底上制备背电极和牺牲层;在牺牲层上制备CIGS薄膜太阳能电池,然后分别在单晶硅电池的P型硅层和CIGS薄膜太阳能电池的窗口层上分别沉积金属键合层;将制备好的单晶硅电池上的金属键合层与CIGS太阳能电池表面的金属键合层进行金属键合;将键合后的单晶硅/CIGS叠层电池在常温下进行衬底的剥离;在单晶硅电池和CIGS电池上分别沉积电极,即得单晶硅/CIGS叠层太阳能电池。本发明采用剥离技术制备单晶硅/铜铟镓硒(CIGS)叠层太阳电池,首先分开制备单晶硅电池和CIGS薄膜太阳能电池,然后利用金属键合工艺制得叠层电池,其光电转换效率将比单晶硅电池提高5%‑20%。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 制备 方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
一种叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:步骤一、采用P型单晶硅片制备太阳能电池;步骤二、在衬底上制备背电极层;步骤三、在背电极层上制备牺牲层,所述牺牲层为NaF层;步骤四、在牺牲层上制备CIGS薄膜太阳能电池;步骤五、采用热蒸发或溅射的方法,分别在单晶硅电池的P型硅层和CIGS薄膜太阳能电池的窗口层上沉积金属键合层;步骤六、将制备好的单晶硅电池上的金属键合层与CIGS薄膜太阳能电池上的金属键合层进行金属键合;步骤七、将键合后的单晶硅/CI GS叠层电池在常温下进行所述衬底和背电极层的剥离;步骤八、在单晶硅电池的N+硅层上沉积金属电极;步骤九、在CIGS薄膜太阳能电池表面制备栅线电极;步骤十、采用蒸发法在叠层电池的上表面制备抗反射层,即得单晶硅/CI GS叠层太阳能电池。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的