[发明专利]瑕疵检测方法及其装置有效
申请号: | 201410756951.1 | 申请日: | 2014-12-11 |
公开(公告)号: | CN105572133B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 洪国峰 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹玲柱 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种瑕疵检测方法及其装置。该瑕疵检测方法包含:依据待测工件的结构,对待测工件表面的至少一个待测区域,决定至少一个入射路径与至少一个反射路径,此待测区域、入射路径与反射路径均一一对应;对此些待测区域中每一个待测区域,以光源依据对应的入射路径照射此待测区域;对此些待测区域中每一个待测区域,依据对应的反射路径,使光源照射于此待测区域的反射光成像至屏幕以得到反射图像,此反射图像与此待测区域一一对应;以及分析此反射图像以判断待测工件的表面是否有瑕疵。 | ||
搜索关键词: | 瑕疵 检测 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1.一种瑕疵检测方法,其特征在于,包含:依据一待测工件的结构,对该待测工件表面的至少一待测区域,决定至少一入射路径与至少一反射路径,该至少一待测区域、该至少一入射路径与该至少一反射路径均一一对应;对该至少一待测区域中每一该待测区域,以一光源依据对应的该入射路径照射该待测区域;对该至少一待测区域中每一该待测区域,依据对应的该反射路径,使该光源照射于该待测区域的反射光成像至一屏幕以得到至少一反射图像,该至少一反射图像与该至少一待测区域一一对应;以及分析该至少一反射图像以判断该待测工件是否有瑕疵;其中,该待测工件是指一凸面且可反光的工件。
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