[发明专利]光掩模坯料

摘要

本发明提供了光掩模坯料，具体地提供了包含透明衬底和在透明衬底上沉积的含铬膜的光掩模坯料。该含铬膜包含至少一个CrC化合物层，其包含最高至50原子％Cr、至少25原子％O和/或N之和、和至少5原子％C。由该坯料制备具有在衬底上形成的光掩模图案的光掩模，该光掩模用于使用具有最高至250nm波长的曝光光形成具有最高至0.1μm线宽的抗蚀剂图案的光刻法。

主权项

1.一种光掩模坯料，由其制备包含透明衬底和在透明衬底上形成的光掩模图案的光掩模，该光掩模用于使用具有最高至250nm波长的曝光光形成具有最高至0.1μm宽度的线的抗蚀剂图案的光刻法，所述光掩模坯料包含透明衬底和直接或通过至少一种额外膜沉积在该衬底上的含铬膜，所述含铬膜包含一个或多个层，至少一个层为CrC化合物层，其包含最高至50原子％铬、至少25原子％氧和/或氮之和、和至少5原子％碳，其中CrC化合物层具有至少5,000欧姆每平方的薄层电阻。