[发明专利]基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片有效
申请号: | 201410709708.4 | 申请日: | 2014-11-28 |
公开(公告)号: | CN104377544B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 余力强;吉晨;赵玲娟;陆丹;王浩;郭露 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/12 | 分类号: | H01S5/12;H01S5/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片,包括一下限制层;一有源层,其制作在下限制层上;一上限制层,其制作在有源层上;一波导层,为条状,其纵向制作在上限制层上面的中间;一P+电极层,其是用隔离沟将其分为三段,其制作在波导层上;一N+电极层,其制作在下限制层的背面;其中分为三段的P+电极层分别对应为DFB激光器区、无源相位调节区和有源放大反馈区,该DFB激光器区对应的上限制层部分制作有分布反馈Bragg光栅层;该无源相位调节区对应的有源层与DFB激光器区和有源放大反馈区对应的有源层的增益峰存在90nm蓝移。本发明可以突破普通激光器芯片的直调带宽限制,用一种巧妙、有效且成本低的方法实现激光器直调带宽的扩展。 | ||
搜索关键词: | 基于 放大 反馈 实现 带宽 扩展 单片 集成 激光器 芯片 | ||
【主权项】:
一种基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片,包括:一下限制层;一有源层,其制作在下限制层上;一上限制层,其制作在有源层上;一波导层,为条状,其纵向制作在上限制层上面的中间;一P+电极层,其是用隔离沟将其分为三段,其制作在波导层上;一N+电极层,其制作在下限制层的背面;其中分为三段的P+电极层分别对应为DFB激光器区、无源相位调节区和有源放大反馈区,所述的无源相位调节区用于调节反馈光的相位,无源相位调节区对应的有源层的材料是体材料,或是量子阱材料;无源相位调节区的长度为200至400μm;该DFB激光器区对应的上限制层部分制作有分布反馈Bragg光栅层;该无源相位调节区对应的有源层与DFB激光器区和有源放大反馈区对应的有源层的增益峰存在90nm蓝移。
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