[发明专利]光掩模及其制造方法、图案转印方法、显示装置的制造方法

摘要

本发明提供一种光掩模及其制造方法、图案转印方法、显示装置的制造方法。所述光掩模具有用于在被转印体上形成线宽Wp的器件图案的转印用图案，器件图案的线宽Wp与构成转印用图案的第1空白图案的线宽Wm之间的关系满足下述式(1)和式(2)：Wp＜10μm…(1)1≦(Wm－Wp)/2≦4(μm)…(2)。

主权项

1.一种接近曝光用的光掩模，所述光掩模具有用于在被转印体上形成线宽Wp的器件图案的转印用图案，该光掩模具有一边为300mm以上的主表面，所述光掩模的特征在于，所述转印用图案具有：遮光区域，其通过在透明基板上至少形成有遮光膜而成；和线宽Wm的第1空白图案，其是与所述遮光区域邻接且按照由所述遮光区域从两侧夹持的方式配置的第1空白图案，与所述器件图案对应，而且，所述第1空白图案由在所述透明基板上形成半透光膜而成的半透光部构成，所述器件图案的线宽Wp与所述第1空白图案的线宽Wm之间的关系满足下述式1和式2：Wp＜10μm…式11.0≦(Wm－Wp)/2≦3.0(μm)…式2。