[发明专利]煎烤装置

摘要

本发明公开了一种煎烤装置，煎烤装置包括：下烤盘、上烤盘以及发热管，上烤盘可转动地连接至下烤盘，且上烤盘与下烤盘之间限定出煎烤腔室，上烤盘和下烤盘在闭合状态时煎烤腔室的高度为10‑15mm，上烤盘和下烤盘均为方形烤盘，发热管设在上烤盘和下烤盘的至少一个内且盘绕设置，发热管的中心线与其所在的上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。根据本发明的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10‑15mm的范围内，可以提高食物上表面的煎烤效果，且通过将发热管与相应烤盘内侧壁之间的距离限定在50mm以内，可以减小烤盘的中心与边缘的温差，提高烤盘边缘处食物的煎烤效果，使得烤盘整体受热均匀，从而使得食物整体可以均匀地受热、成熟和上色。

主权项

1.一种煎烤装置，其特征在于，包括：下烤盘；上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10‑15mm，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘，所述上烤盘和所述下烤盘的内表面上形成有弯曲的蒸汽通道，所述蒸汽通道形成为螺旋形状，所述下烤盘上的所述蒸汽通道的起始端位于所述下烤盘的中心处，且沿着逆时针的方向向所述下烤盘的边缘一圈圈的螺旋向外延伸，所述上烤盘内的蒸汽通道的形状与所述下烤盘内的所述蒸汽通道的形状相同；发热管，所述发热管设在所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个内且盘绕设置，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm，在所述上烤盘和所述下烤盘内均设置所述发热管且位置对应，当所述上烤盘位于关闭位置时，所述上烤盘内的所述发热管和所述下烤盘内的所述发热管在所述下烤盘内的投影完全重合。