[发明专利]一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴有效
申请号: | 201410520565.2 | 申请日: | 2014-09-30 |
公开(公告)号: | CN105436509B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 孔见;张鑫;林浩;周稷;谢文龙 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | B22F9/08 | 分类号: | B22F9/08 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 朱显国 |
地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴,包括第一层自由降落式喷嘴和第二层laval型喷嘴,第一层自由降落式喷嘴位于第二层laval型喷嘴上方,第一层自由降落式喷嘴带有漏斗结构金属液入口,第二层laval型喷嘴带有线圈,第一层自由降落式喷嘴出口为自由降落式喷嘴出口,第二层laval型喷嘴出口为laval型喷嘴出口。本发明的优点在于双层喷嘴结构实现多次气雾化过程,雾化效率高;阶梯状双层导液管与辅助风孔的设计可防止喷嘴堵塞;缠绕通电线圈产生电磁场的设计,产生紊流,使粉末在喷嘴管内部不易融合,并且产生离心力作用,使粉末颗粒更加分散,降低融合几率,有利于得到粒度小、球形度高的粉末。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 电磁场 辅助 作用 金属 雾化 双层 限制性 喷嘴 | ||
【主权项】:
1.一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴,其特征在于:包括第一层自由降落式喷嘴和第二层laval型喷嘴,第一层自由降落式喷嘴位于第二层laval型喷嘴上方,第一层自由降落式喷嘴带有漏斗结构的金属液入口,第二层laval型喷嘴带有线圈,其中第一层自由降落式喷嘴出口为自由降落式喷嘴出口,第二层laval型喷嘴出口为laval型喷嘴出口;第一层自由降落式喷嘴包括上层导液管(1)和第一层雾化器集流腔(2);上层导液管(1)的入口形状为漏斗形,位于漏斗结构下方的上层导液管(1)颈部设有平台,第一层雾化器集流腔(2)为环形,第一层雾化器集流腔(2)带有第一空腔(5),在第一层雾化器集流腔(2)的内壁对称设有一对上层喷嘴辅助风孔(7),上述上层喷嘴辅助风孔(7)自第一空腔(5)向漏斗方向倾斜,第一层雾化器集流腔(2)的第一空腔(5)靠近内环的侧壁为斜面,第一层雾化器集流腔(2)的内壁为倒三角形,第一层雾化器集流腔(2)外壁对称设有一对进气孔,使得空气进入第一空腔(5),内环侧壁底部设有上层喷嘴倾斜环缝(6),上层喷嘴倾斜环缝(6)角度与内环侧壁斜面角度一致,上层喷嘴倾斜环缝(6)为第一层雾化器集流腔(2)的空气出口;上层喷嘴辅助风孔(7)位于上层喷嘴倾斜环缝(6)上方;上层导液管(1)插入第一层雾化器集流腔(2)的中心内环,上层导液管(1)的平台卡在第一层雾化器集流腔(2)的内环顶部,防止上层导液管(1)滑落;上层导液管(1)的出口不高于上层喷嘴倾斜环缝(6),且不进入第二层laval型喷嘴;上述第二层laval型喷嘴包括下层导液管(3)和第二层雾化器集流腔(4),下层导液管(3)外壁设有螺纹,第二层雾化器集流腔(4)为环形,内环侧壁设有螺纹,第二层雾化器集流腔(4)带有第二空腔(8),在第二层雾化器集流腔(4)的内环侧壁对称设有一对下层喷嘴辅助风孔(10),上述下层喷嘴辅助风孔(10)由第二空腔(8)向内环顶部倾斜,第二层雾化器集流腔(4)的第二空腔(8)靠近内环的侧壁为斜面,第二层雾化器集流腔(4)的内壁为倒三角形,第二层雾化器集流腔(4)外壁对称设有一对进气孔,使得空气进入第二空腔(8),内环侧壁底部设有下层喷嘴倾斜环缝(9),下层喷嘴倾斜环缝(9)为第二层雾化器集流腔(4)的空气出口,出口为laval型;下层喷嘴辅助风孔(10)位于下层喷嘴倾斜环缝(9)上方,第二层雾化器集流腔(4)内壁下层喷嘴辅助风孔(10)的下方缠有通电螺线圈,下层导液管(3)设置在第二层雾化器集流腔(4)的内环中心,并通过螺纹配合连接。
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