[发明专利]浸液系统及其供给控制方法有效
| 申请号： | 201410510062.7 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN105527797B | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 赵丹平;聂宏飞;秦少伍;张崇明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种适用于浸没式光刻机的浸液系统，包括用于向光刻机浸没头内供给浸液的浸液供给系统，用于回收所述浸液的浸液回收系统，用于测量所述浸液的液压、流量、纯净度和温度的浸液测量系统，用于控制所述浸液的液压、流量、纯净度和温度的浸液控制系统，其中，所述浸液供给系统为溢流式浸液供给系统，所述溢流式浸液供给系统与所述浸液控制系统相结合。本发明还提供一种所述浸液系统的供给控制方法，通过上述浸液系统的循环控制，使供给浸液的液压和温度稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 浸液 系统 及其 供给 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种浸液系统，适用于浸没式光刻机，所述浸液系统包括：浸液供给系统、浸液回收系统、浸液测量系统和浸液控制系统；所述浸液供给系统，用于向光刻机浸没头内供给浸液；所述浸液回收系统，用于回收所述浸液；所述浸液测量系统，用于测量所述浸液的液压、流量、纯净度和温度；所述浸液控制系统，用于控制所述浸液的液压、流量、纯净度和温度；其特征在于，所述浸液供给系统为溢流式浸液供给系统，所述溢流式浸液供给系统包括溢出水箱，所述溢出水箱用于均匀所述浸液的液压。
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