[发明专利]粒子射线照射方法及使用该方法的粒子射线照射装置有效

专利信息
申请号: 201410499265.0 申请日: 2005-02-04
公开(公告)号: CN104258506B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 原田久 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡秋瑾
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在进行深度方向的照射区域扩大和横向的照射区域扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中,力求使照射目标的各照射层的每一层照射剂量实质上为一定,以简化控制。深度方向照射区域扩大单元为将沿所述粒子射线束的照射方向上射程互不相同的多层照射层进行重叠的主动的照射区域扩大,另外,横向照射区域扩大单元为将所述粒子射线束的照射点沿横向进行重叠的主动的照射区域扩大,此外,配置具有沿照射目标深度方向最深部位的形状的物块,以使其横着切割粒子射线束。
搜索关键词: 粒子 射线 照射 方法 使用 装置
【主权项】:
1.一种粒子射线照射装置,包括:产生粒子射线束的粒子射线发生部;输送该粒子射线发生部所发生的所述粒子射线束的粒子射线输送部;向照射目标照射由该粒子射线输送部所输送的所述粒子射线束的粒子射线照射部;在所述粒子射线束的照射方向的深度方向上扩大所述粒子射线束的照射区域的深度方向照射区域扩大单元;以及在与所述粒子射线束的照射方向正交的横向上扩大所述粒子射线束的照射区域的横向照射区域扩大单元,所述粒子射线照射装置的特征在于,所述照射目标为被治疗部位,该被治疗部位沿着所述粒子射线束的照射方向的深度和与其正交的横向具有依存关系,在横向上发生变化,该深度方向上的所述被治疗部位的变化形状被称为远端形状,将所述深度方向照射区域扩大单元设置为对在所述粒子射线束的照射方向上射程互不相同的多层照射层进行重叠的主动的照射区域扩大单元,将所述横向照射区域扩大单元设置为在所述横向对所述粒子射线束的照射点进行重叠的主动的照射区域扩大单元,在所述粒子射线照射装置中,配置以与沿所述照射目标深度方向的最深层的所述远端形状相一致的方式制作而成的物块,以使其横向切断所述粒子射线束,由此,与所述照射目标即被治疗部位沿着所述粒子射线束的照射方向的深度在垂直于所述粒子射线束的照射方向的横向上发生变化无关地,使所述最深层和其前面的各个照射层的每一层上的照射剂量实质上保持不变,选定再照射所述粒子射线束一次以上的再照射层,其中该再照射层包含具有所述远端形状的所述最深层和其前面的照射层,同时使照射到具有所述远端形状的最深层的所述粒子射线束的能量实质上为一定,且使对所述最深层以外的照射层的再照射次数少于对所述最深层的再照射次数,所述粒子射线照射装置具有控制照射顺序的控制计算机,该控制计算机通过将照射次数分成多次以平均地分割各所述再照射层所必需的照射剂量,以在所述最深层和其前面的照射层的每一层上给予所述照射点的照射剂量实质上保持一定的方式来进行照射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410499265.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top