[发明专利]等离子体处理玉米种子及配套栽培方法

摘要

本发明公开了一种等离子体处理玉米种子及配套栽培方法，本发明方法适宜于在北纬33°－40°、海拔700－1300米的生态区内使用。本发明的等离子体处理玉米种子的方法是采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机，处理剂量为1.6－2.0A，处理两次，种子流量为5.0－5.5kg/min，处理后6-12天内播种。配套本发明的栽培方法是（1）选择适宜的生育期品种；（2）合理施肥；（3）适时浇水。采用本发明的方法相比现有技术能提高玉米的单位面积产量30%以上；可节省地膜覆盖投入每亩90元；可拓宽玉米栽培的区域范围，提高生态资源的利用率，同样地力和栽培管理成本的地块，较种植杂粮莜麦每亩增收700多元。本发明是一项实用性很强的玉米增产技术。

主权项

等离子体处理玉米种子及配套栽培方法，其特征在于，等离子体处理种子　的方法是：采用大连博事等离子体有限公司生产的DL‑2型等离子体处理机，处理剂量为1.6－2.0A，处理两次，种子流量为5.0－5.5kg/min，处理后6‑12天内播种； 与等离子体处理种子配套的栽培方法是：（1）选择适宜的生育期品种　在相同的生态区不改变栽培方式时，选择较常用生育期品种长15－20天左右的品种；或在相同的生态区不改变栽培方式时，选择常用生育期品种，但要延迟播种15－20天；或在原需要覆盖地膜才能成熟的生态区，选择常用生育期品种，不改变播种期，不需再覆盖地膜；（2）合理施肥　播前施足长效的氮、磷、钾复合肥，生长期在株高115－120cm时追施氮肥15公斤/亩，在灌浆阶段追施氮肥10公斤/亩； （3）适时浇水　在生长期和灌浆阶段，如果发生干旱应及时浇水。