[发明专利]Na剂量控制方法有效
申请号: | 201410441930.0 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN105206704B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 许丽;李文钦 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0392 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种Na剂量控制方法,该方法包括将至少两个衬底彼此间以一定距离放置在衬底载体上,将衬底载体放置在反应腔室中,在该至少两个衬底上沉积前体,以及对该至少两个衬底实施第一退火工艺。该至少两个衬底包括第一含量的第一材料。至少两个衬底之间的距离基于第一材料的第一含量和至少一个工艺参数。所公开的方法有利地提供了改善的Na剂量控制。 | ||
搜索关键词: | na 剂量 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种Na剂量控制方法,包括:将至少两个衬底彼此间以一定距离放置在衬底载体上,所述至少两个衬底包括第一含量的第一材料和第二含量的第二材料,其中,所述至少两个衬底之间的所述距离基于所述第一材料的第一含量和至少一个退火工艺参数,其中,所述第一材料包括Na2O,所述第一含量的重量百分比介于2%和12%之间并且所述第二含量的重量百分比为至少4%且所述第二材料包括K2O;将所述衬底载体放置在反应腔室中;以及对所述至少两个衬底实施第一退火工艺,其中,所述距离介于5mm和100mm之间。
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