[发明专利]CMP工艺仿真方法及其仿真系统在审

专利信息
申请号: 201410400134.2 申请日: 2014-08-14
公开(公告)号: CN104123428A 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 刘宏伟;陈岚;方晶晶;孙艳;张贺;马天宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;G06F9/455
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种CMP工艺仿真方法及仿真系统,该方法包括:对芯片版图进行网格划分,形成多个网格单元,提取各个网格单元的图形特征;分别以各个网格单元的图形特征为索引目标,在预设多维空间数据表格中,查找与各个网格单元图形特征对应的CMP工艺仿真表面形貌数据,获得所述各个网格单元的CMP工艺仿真结果;对各个网格单元的CMP工艺仿真结果进行汇总,获得所述芯片版图的CMP工艺仿真结果;其中,所述预设多维空间数据表格为包括决定CMP工艺表面形貌特征的图形特征以及图形级CMP工艺仿真表面形貌数据对应关系的多维空间数据表格。从而降低了对芯片版图进行CMP工艺仿真时的计算复杂度,同时也降低了研发成本。
搜索关键词: cmp 工艺 仿真 方法 及其 系统
【主权项】:
一种CMP工艺仿真方法,其特征在于,包括:对芯片版图进行网格划分,形成多个网格单元,提取各个网格单元的图形特征;分别以所述各个网格单元的图形特征为索引目标,在预设多维空间数据表格中,查找与所述各个网格单元图形特征对应的CMP工艺仿真表面形貌数据,获得所述各个网格单元的CMP工艺仿真结果;对各个网格单元的CMP工艺仿真结果进行汇总,获得所述芯片版图的CMP工艺仿真结果;其中,所述预设多维空间数据表格为包括决定CMP工艺表面形貌特征的图形特征以及图形级CMP工艺仿真表面形貌数据对应关系的多维空间数据表格。
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