[发明专利]一种蓝宝石晶片褪镀工艺有效
| 申请号： | 201410387687.9 | 申请日： | 2014-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN104178816A | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;饶桥兵;阳畯 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人： | 颜勇 |
| 地址： | 410329 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蓝宝石晶片褪镀工艺，用于蓝宝石加工过程中的褪镀返工，包括如下步骤：第一步、高温脱墨；第二步、降温；第三步、使用碱性光学玻璃清洗剂进行清洗脱膜；第四步、使用去离子水漂洗；第五步、使用碱性水基环保清洗剂清洗；第六步、使用柠檬酸溶液浸泡去残留；第七步、使用去离子水二次漂洗。本发明避免采用强酸溶剂通过氧化还原进行褪镀，通过新型的清洗剂结合加热处理，实现蓝宝石镜片表面镀层的物理剥离，褪镀效果好，有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题，具有环保、安全的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 晶片 工艺 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于包括如下步骤：第一步、高温脱墨，将蓝宝石晶片加热至450～480℃；第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80～100℃；第三步、脱膜，使用质量比100％的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗；第四步、漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗；第五步、清洗，使用质量比为10～15％的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗；第六步、去残留，使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡；第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗。
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