[发明专利]宽禁带半导体器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410379970.7 申请日: 2014-08-04
公开(公告)号: CN104241372B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 星野政宏;张乐年 申请(专利权)人: 台州市一能科技有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 台州市方圆专利事务所(普通合伙) 33107 代理人: 张智平;章以臣
地址: 318000 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种宽禁带半导体器件及其制作方法,属于半导体制备技术领域。它解决了现有宽禁带半导体器件中易受热膨胀影响的问题。本宽禁带半导体器件包括使用宽禁带半导体材料为衬底的芯片和使用宽禁带半导体材料制成的底座,并在所述的底座上设有放置芯片的凹槽结构。本发明还提供了一种制作本宽禁带半导体器件的方法。本发明的宽禁带半导体器件的芯片衬底和底座均采用宽禁带半导体材料制成,能够达到快速散热的目的;同时由于热膨胀系数和散热系数基本相同,因此不需要在底部或者附属配件上增加调整热膨胀系数的各种材料,极大的简化了宽禁带半导体器件结构,减小了热膨胀的影响,提高了稳定性。
搜索关键词: 宽禁带 半导体器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种宽禁带半导体器件,其特征在于,包括使用宽禁带半导体材料为衬底的芯片(1)和使用宽禁带半导体材料制成的底座(2),并在所述的底座(2)上设有放置芯片(1)的凹槽结构(4)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台州市一能科技有限公司,未经台州市一能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410379970.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top