[发明专利]一种大流量单进口环形集液腔均流装置有效

专利信息
申请号: 201410347815.7 申请日: 2014-07-21
公开(公告)号: CN105317586B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 丁兆波;许晓勇;孙纪国;王维彬;乔桂玉;田原;赵世红;高翔宇;李丹琳;刘红珍;王召;程鹏;王仙 申请(专利权)人: 北京航天动力研究所
主分类号: F02K9/60 分类号: F02K9/60
代理公司: 核工业专利中心11007 代理人: 李东斌
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 该技术属于集液腔均流装置技术领域,具体涉及一种大流量单进口环形集液腔均流装置。其包括流路进口、一次大均流腔、径向均流孔、二次小均流腔、流路出口、集液腔基体。流路进口位于集液腔基体正上方,其下方为一次大均流腔,在一次大均流腔中,并与流路进口相对的正下方为进口均流板,进口均流板上开有数个通孔,可以起到局部整流作用,使得沿环形集液腔周向的压力分布基本趋于均匀,同时可以将局部流阻控制在较低水平。径向均流孔位于一次大均流腔下游,共有多个径向均流孔在大均流腔的底部沿周向排列,并与二次小均流腔连接,起到进一步均流作用的同时将局部流阻控制在较低水平。
搜索关键词: 一种 流量 进口 环形 集液腔均流 装置
【主权项】:
一种大流量单进口环形集液腔均流装置,其特征在于:包括流路进口(1)、一次大均流腔(2)、径向均流孔(5)、二次小均流腔(6)、流路出口(7),所述一次大均流腔(2)为球型空腔结构,其上方为流路进口(1),一次大均流腔(2)通过径向均流孔(5)与二次小均流腔(6)连接,所述流路出口(7)位于二次小均流腔(6)的下方,所述径向均流孔(5)共有若干个,在大均流腔(2)的底部沿周向排列,并与二次小均流腔(6)连接;所述一次大均流腔(2)内水平放置进口均流板(3),在进口均流板(3)上开有通孔(4),起到局部整流作用,使得沿环形集液腔周向的压力分布基本趋于均匀;所述通孔(4)有若干个。
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