[发明专利]真空沉积设备和用于真空沉积的方法有效
| 申请号： | 201410318375.2 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104278232B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C16/04;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 王占杰;龚振宇 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种真空沉积设备和一种用于真空沉积的方法。所述真空沉积设备包括真空沉积装置、掩模、真空室和控制单元。真空沉积装置在基底上沉积薄膜层。掩模设置在基底和真空沉积装置之间，使用掩模在基底上选择性地沉积薄膜层。真空室围绕真空沉积装置和掩模。控制单元设置在真空室的外部，控制单元与真空沉积装置连接并控制施加在掩模上的拉力和压缩力。 1 | ||
| 搜索关键词： | 真空沉积装置 掩模 真空沉积设备 真空室 基底 沉积薄膜 真空沉积 压缩力 施加 外部 | ||
【主权项】：
1.一种真空沉积设备，所述真空沉积设备包括：真空沉积装置，在基底上沉积薄膜层；掩模，设置在基底和真空沉积装置之间，使用掩模在基底上选择性地沉积薄膜层；真空室，围绕真空沉积装置和掩模；掩模框架，具有开口，掩模框架与掩模焊接；掩模台，支撑掩模框架；以及控制单元，设置在真空室的外部，控制单元与真空沉积装置连接并通过掩模台和掩模框架的移动来控制施加在掩模上的拉力和压缩力，其中，掩模台设置在掩模框架的四个侧中的至少一侧上，并且包括沿掩模框架运送掩模台的运送装置。
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