[发明专利]一种注入稀土元素的白光发射氮化铝材料、制备方法及应用有效
| 申请号： | 201410304645.4 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104119887A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 王晓丹;高崴崴;莫亚娟;毛红敏 | 申请（专利权）人： | 苏州科技学院 |
| 主分类号： | C09K11/64 | 分类号： | C09K11/64;H01L33/50 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种注入稀土元素的白光发射氮化铝材料、制备方法及应用。将厚度为50nm～100nm的氮化铝薄膜材料置于离子注入装置中，分别进行Pr、Er和Tm稀土离子的注入和退火处理，注入的能量范围为200～400KeV，注入角度为0～100，各离子的注入剂量相同，分别为1014～1016个/平方厘米。制备得到的氮化铝材料具有白光发射功能，它可以作为核心功能材料，应用于光发射二极管、平板显示等领域中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 注入 稀土元素 白光 发射 氮化 材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种注入稀土元素的白光发射氮化铝材料的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）将氮化铝薄膜材料置于离子注入装置中，进行Pr离子注入，注入的能量范围为200～400 KeV，注入角度为0～10°，Pr离子的注入剂量为1014～1016个/平方厘米；（2）将Pr离子注入完成后的氮化铝薄膜材料取出，在温度为900～1050 ℃，常压、流量为0.6～1.0 sccm的N2流动气氛条件下进行退火处理2～4小时；（3）将经步骤（2）退火处理后的氮化铝薄膜材料置于离子注入装置中，进行Er离子注入，注入的能量范围为200～400 KeV，注入角度为0～10°，Er离子的注入剂量与Pr离子的注入剂量一致；（4）将Er离子注入完成后的氮化铝薄膜材料取出，在温度为900～1050 ℃，常压、流量为0.6～1.0 sccm的N2流动气氛条件下进行退火处理2～4小时；（5）将经步骤（4）退火处理后的氮化铝薄膜材料置于离子注入装置中，进行Tm离子注入，注入的能量范围为200～400 KeV，注入角度为0～10°，Tm离子的注入剂量与Pr离子的注入剂量一致；（6）将Tm离子注入完成后的氮化铝薄膜材料取出，在温度为1150～1250 ℃，N2气氛、压力为5～10个大气压的条件下进行退火处理2～4小时后，得到一种注入Pr、Er和Tm稀土离子的白光发射氮化铝材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州科技学院，未经苏州科技学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410304645.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
