[发明专利]一种准单晶硅锭生长方法有效

专利信息
申请号: 201410214862.4 申请日: 2014-05-20
公开(公告)号: CN103966660B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 高文秀;李帅;赵百通 申请(专利权)人: 江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙)31290 代理人: 金碎平
地址: 214222 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种准单晶硅锭生长方法,包括如下步骤:a)在石英坩埚内将多晶硅料加热熔化形成硅熔液;b)对籽晶预热后,将籽晶由上向下移动浸入硅熔液内;c)控制籽晶的旋转速度并缓慢提升籽晶,从籽晶和硅熔液的接触面向下及四周生长形成准单晶锭;d)当准单晶锭的生长比重达到预设阈值时,结束晶体生长,降温至退火温度,冷却出炉。本发明提供的准单晶硅锭生长方法,将籽晶由上向下浸入硅熔液内,通过控制籽晶的旋转和向上提升,使得准单晶锭在生长时与石英坩埚壁之间存在液态硅,有效避免准单晶硅锭与坩埚壁直接接触,从而具有单晶率高,位错率低的优点;且无坩埚接触污染,无需去除边皮层。
搜索关键词: 一种 单晶硅 生长 方法
【主权项】:
一种准单晶硅锭生长方法,其特征在于,包括如下步骤:a)在石英坩埚内将多晶硅料加热熔化形成硅熔液;b)对籽晶预热后,将籽晶由上向下移动浸入硅熔液内;c)控制籽晶的旋转速度并缓慢提升籽晶,从籽晶和硅熔液的接触面向下及四周生长形成准单晶锭;所述籽晶的旋转速度范围为0.5~2转/分,所述籽晶的提升高度为1~5cm,且生长形成的准单晶锭顶部的高度不高于石英坩埚侧壁的高度;d)当准单晶锭的生长比重达到预设阈值时,结束晶体生长,降温至退火温度,冷却出炉。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司,未经江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410214862.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top