[发明专利]镭射母版及制造该镭射母版的光刻机有效

专利信息
申请号: 201410097075.6 申请日: 2014-03-13
公开(公告)号: CN103862908B 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 蔡旭楠;李晓笙 申请(专利权)人: 广东东南薄膜科技股份有限公司
主分类号: B41N1/00 分类号: B41N1/00;G03F7/20
代理公司: 汕头市潮睿专利事务有限公司44230 代理人: 郭晓刚,俞诗永
地址: 515000 广东省汕头市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种镭射母版,包括镭射母版本体,所述镭射母版本体工作面上有全息图案,全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元,全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元,标识像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律与光柱周期性像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律不同,从而产生局部素描图案光柱体标识。光刻机包括激光器、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜、玻璃光栅片,所述激光器、玻璃光栅片、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜依次呈光学配合排列。本发明能够实现具有宽幅镭射光柱素描水印定位标识全息图的镭射母版制作。
搜索关键词: 镭射 母版 制造 光刻
【主权项】:
一种镭射母版,包括镭射母版本体,所述镭射母版本体工作面上有全息图案,所述全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元,其特征在于:所述全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元,所述标识像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律与光柱周期性像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律不同,从而产生局部素描图案光柱体标识;所述局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元与光柱周期性像素点单元的光变角度一致、光柱方向一致、折射位置统一、曝光率不同,因此两者所呈现出来的光栅条纹深浅度也不同。
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