[发明专利]磁控溅射镀膜系统有效
申请号: | 201410085940.5 | 申请日: | 2014-03-10 |
公开(公告)号: | CN103866255A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 郑芳平;张迅;易伟华 | 申请(专利权)人: | 江西沃格光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 吴平 |
地址: | 338004 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 一种磁控溅射镀膜系统,包括第一间歇性充气组件、第二间歇性充气组件、进片室、进片过渡室、进片缓冲室、溅射室、出片缓冲室、出片过渡室和出片室;进片过渡室和进片缓冲室之间设置第一门阀,出片过渡室和出片缓冲室之间设置第二门阀;第一间歇性充气组件包括第一间歇性开关、第一间歇性开关电磁阀和第一延时器,第一间歇性开关设于进片过渡室上;第二间歇性充气组件包括第二间歇性开关、第二间歇性开关电磁阀和第二延时器,第二间歇性开关设于出片过渡室上;第一间歇性开关电磁阀与第一门阀并联,第一延时器与第一门阀串联,第二间歇性开关电磁阀与第二门阀并联,第二延时器与第二门阀串联。该系统解决了气体的浪费问题,利于工艺稳定。 | ||
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【主权项】:
一种磁控溅射镀膜系统,其特征在于,包括第一间歇性充气组件、第二间歇性充气组件和呈直线式排列的进片室、进片过渡室、进片缓冲室、溅射室、出片缓冲室、出片过渡室和出片室;其中,所述进片过渡室和进片缓冲室之间设置有第一门阀,所述出片过渡室和出片缓冲室之间设置有第二门阀,所述第一门阀包括第一控制电磁阀,所述第二门阀包括第二控制电磁阀;所述第一间歇性充气组件包括第一间歇性开关、第一间歇性开关电磁阀和第一延时器,所述第一间歇性开关设置于所述进片过渡室上;所述第二间歇性充气组件包括第二间歇性开关、第二间歇性开关电磁阀和第二延时器,所述第二间歇性开关设置于所述出片过渡室上;所述第一间歇性开关电磁阀的开关电线路与所述第一控制电磁阀的开关电线路并联,所述第一延时器的电线路与所述第一控制电磁阀的开关电线路串联,所述第二间歇性开关电磁阀的开关线路与所述第二控制电磁阀的开关线路并联,所述第二延时器的电线路与所述第二控制电磁阀的开关电线路串联。
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