[发明专利]天麻素分子印迹聚合物及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201410084491.2 | 申请日： | 2014-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103881024A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 王晓;纪文华;陈凌霄;刘大会;高乾善;耿岩玲;马秀丽 | 申请（专利权）人： | 山东省分析测试中心 |
| 主分类号： | C08F222/38 | 分类号： | C08F222/38;C08F222/14;C08F212/36;C08F216/14;C08F212/14;C08J9/26;B01J20/26;C07H15/203;C07H1/06 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 杨琪 |
| 地址： | 250014 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种天麻素分子印迹聚合物及其制备方法与应用，以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60在反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；将得到的分子印记聚合物研磨、洗脱、烘干，得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。将得到的除去模板的天麻素分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，应用于从天麻中提取天麻素，具有选择性强、吸附量大、获得的天麻素纯度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 天麻 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60加入反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；（2）将步骤（1）得到的聚合物研磨过筛，得均匀带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，用体积分数为10%～20%的乙酸甲醇溶液洗脱，得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒，真空下50～65℃烘干，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物；其中步骤（1）所述的功能单体为烯丙基四乙酰基葡萄糖、烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖或五氟苯乙烯；所述的交联剂为N,N‑二甲基二丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯或二乙烯基苯；所述制孔剂为二甲基亚砜、乙腈；所述引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈。
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