[发明专利]相变存储器单元的制备方法、相变材料及相变存储器单元在审

专利信息
申请号: 201410075734.6 申请日: 2014-03-04
公开(公告)号: CN103904215A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 程国胜;张杰;孔涛;黄荣;卫芬芬 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 宋鹰武;沈祖锋
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供的相变存储器单元的制备方法,采用吸附有金纳米颗粒的衬底,以由锡粉末和碲化锗粉末组成的混合物作为蒸发源,将上述蒸发源与衬底置于水平管式炉内,在一定的条件下进行化学反应,得到沉积有锡掺杂碲化锗纳米线的衬底,将上述衬底上的锡掺杂碲化锗纳米线迁移至2英寸SiO2/Si表面各个小金属框的中心处,烘干;再分别采用紫外光刻、磁控溅射技术和剥离技术得到所述相变存储器单元,即锡掺杂碲化锗纳米线两端电极器件,上述相变存储器单元通过对相变材料掺杂锡粉末进行改性,从而提高了相变材料的电阻率,降低了相变材料的熔点,从而有效降低相变材料的操作功耗。另外,本发明还提供了一种相变材料及相变存储器单元。
搜索关键词: 相变 存储器 单元 制备 方法 材料
【主权项】:
一种相变存储器单元的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:S110:提供一衬底,并在所述衬底表面吸附金纳米颗粒;S120:将由锡粉末和碲化锗粉末组成的混合物作为蒸发源;S130:将所述衬底和所述蒸发源于惰性环境中加热,且使所述衬底置于所述蒸发源的下风向处;S140:将所述衬底升温至360~420℃后保温60~90min,所述蒸发源升温至510~540℃后保温60~90min,并在升温过程中持速通入所述惰性气体;S150:通入所述惰性气体使所述衬底和所述蒸发源冷却至室温,得到沉积有锡掺杂碲化锗纳米线的衬底;S160:将步骤S150中得到的衬底置于乙醇中进行超声、静置,形成悬浮液;S170:将所述悬浮液的上层溶液,滴在由SiO2/Si形成的各个小金属框的中心处,烘干;S180:将步骤S170中得到的SiO2/Si分别采用紫外光刻、磁控溅射技术和剥离技术得到所述相变存储器单元。
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