[发明专利]一种弱目标探测红外相机关键表面涂层发射率确定方法有效

专利信息
申请号: 201410073596.8 申请日: 2014-02-28
公开(公告)号: CN103868921A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 阮宁娟;苏云;郭崇玲;吴立民;赵海博;胡斌;郑国宪;肖思 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 安丽
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种弱目标探测红外相机关键表面涂层发射率确定方法,弱目标探测红外相机的杂散光有内杂散光和外杂散光之分。在选取关键表面的发射率时,抑制措施对内部杂散光和外部杂散光的影响是相互矛盾的,需要对红外光学遥感器的内部杂散光和外部杂散光采取综合抑制措施。该方法通过分析弱目标探测红外相机关键表面涂层发射率值改变时内部杂散光和外部杂散光的变化趋势,找出表面涂层发射率的最优值,使得该发射率同时满足内部杂散光和外部杂散光的综合抑制要求。
搜索关键词: 一种 目标 探测 红外 相机 关键 表面 涂层 发射 确定 方法
【主权项】:
一种弱目标探测红外相机关键表面涂层发射率确定方法,其特征在于实现步骤如下:(1)找出针对内部杂散光和外部杂散光相同的关键表面;所述的内部杂散光指的是弱目标探测红外相机系统自身在内部产生的热辐射、杂散光源,这部分杂散光是由相机自身的温度、发生热辐射元件的表面发射率和面积因素决定的;所述的外部杂散光指的是弱目标探测红外相机物空间视场以外的杂散光;通过对内部杂散光和外部杂散光的分析,分别找出与内、外部杂散光相关的所有关键表面,找出针对内部杂散光和外部杂散光两者相同的关键表面;所述的关键表面可能包括1个或者多于1个,若为1个关键表面,则进行下述步骤(2)一次;若为多于1个,则根据关键表面的个数分别重复进行下述步骤(2);(2)将步骤(1)中所述关键表面设置不同的表面发射率值,发射率的上限和下限均取决于目前的工程实际,设置9个发射率由0.1~0.9,间隔为0.1,重新进行弱目标探测红外相机的内部杂散光和外部杂散光的分析,分别找出内部杂散光和外部杂散光随发射率变化而变化的趋势;(3)若步骤(2)中所述的内部杂散光和外部杂散光随发射率变化而变化的趋势相同,则取反射率的最大值0.9;若步骤(2)中的内部杂散光和外部杂散光随发射率变化而变化的趋势不同,则分别计算不同发射率下内部杂散光和外部杂散光的权重值,将不同发射率下内部杂散光和外部杂散光的权重值加和,找出权重值加和最小时所对应的发射率值,该发射率值即为关键表面的发射率取值,此时即完成了弱目标探测红外相机杂散光的综合抑制。
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