[发明专利]一种短流程制备沉淀强化铜铬合金的方法有效

专利信息
申请号: 201410064150.9 申请日: 2014-02-25
公开(公告)号: CN103820664A 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 梁淑华;张乔;宋克兴;杨卿;肖鹏;郑李媛 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C22C1/04 分类号: C22C1/04;C22C9/00;C22F1/08
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 李娜
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种短流程制备沉淀强化铜铬合金的方法,将工业用铜铬合金通过气体雾化制备成细晶过饱和铜铬合金粉末,然后将其预压后经电脉冲活化处理,再进行挤压,并对挤压出的棒材经二次时效处理,得到沉淀强化铜铬合金。本发明方法制备得到的沉淀强化铜铬合金,晶粒细小,且晶粒内部有析出相存在,其硬度相对同质的传统铜铬合金提高了30%~40%,同时电导率大于80%IACS,为短流程制备沉淀强化铜铬合金提供了一种新方法。
搜索关键词: 一种 流程 制备 沉淀 强化 合金 方法
【主权项】:
一种短流程制备沉淀强化铜铬合金的方法,其特征在于,将工业用铜铬合金通过气体雾化制备成细晶过饱和铜铬合金粉末,然后将其预压后经电脉冲活化处理,再进行挤压,并对挤压出的棒材经二次时效处理,得到沉淀强化铜铬合金。
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