[发明专利]产生方法和信息处理装置有效
申请号: | 201410053642.8 | 申请日: | 2014-02-18 |
公开(公告)号: | CN104007607B | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
发明(设计)人: | 荒井祯 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G06F17/50 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 罗银燕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种产生方法和信息处理装置。本发明提供一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法,产生方法包括以下步骤根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点的步骤;和对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组的步骤。 | ||
搜索关键词: | 产生 方法 信息处理 装置 | ||
【主权项】:
一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法,包括由计算机执行的以下步骤:第一步骤,根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点,规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外在基板上转印图案的容许点;第二步骤,对于包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组,将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组;和第三步骤,产生多个掩模的图案的数据,使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中,其中,目标图案是用于切割在基板上形成的一维布局的线图案的图案,其中,通过在第二步骤中形成组的目标图案要素的点处转印的图案切割线图案,其中,通过在第二步骤中形成组的目标图案要素之间的容许点处转印的图案切割线图案,并且其中,当通过容许点处转印的所述图案切割线图案时,对要从基板制造的器件没有影响。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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