[发明专利]闪耀凹面光栅制作装置及制作方法有效

专利信息
申请号: 201410026216.5 申请日: 2014-01-20
公开(公告)号: CN103744137A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 周倩;倪凯;逄锦超;田瑞;许明飞;董昊;张锦超 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G03F7/00
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 王震宇
地址: 518055 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置,包括凸面闪耀母光栅,所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块,所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。本发明还公开了一种相应的闪耀凹面光栅制作方法。本发明的闪耀凹面光栅制作装置及制作方法能避免闪耀凹面光栅从母光栅上拔取时造成槽型的破坏,有效解决复制闪耀凹面光栅槽型误差大的问题。
搜索关键词: 闪耀 凹面 光栅 制作 装置 制作方法
【主权项】:
一种闪耀凹面光栅制作装置,包括凸面闪耀母光栅,其特征在于,所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块,所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。
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