[发明专利]从盐酸气体中脱除和回收二甲基二氯硅烷工艺

摘要

一种从盐酸气体中脱除和回收二甲基二氯硅烷工艺，包括：冷冻盐水石墨冷却器，其特点是：还包括的步骤有：利用液体CH₃Cl挥发获得＜－50℃的低温，在低温CH₃Cl吸收二甲基二氯硅烷，吸收液通过精馏分离出纯度CH₃Cl＞99.9％（wt）气体和二甲基二氯硅烷＞99.9％（wt）的釜液。本发明即可利用原有的冷冻盐水石墨冷却器，也可利用吸收塔釜液蒸发获得冷量，达到将原料HCl冷却到温度＜－20℃水平，整个工艺达到封闭循环，能够彻底消除原料HCl气相中的二甲基二氯硅烷，并能够将分离下来的二甲基二氯硅烷处理合格全部返回到二甲基二氯硅烷水解工序，具有方法简单，经济实用，运行成本低，污染少，利于环保等优点。

主权项

一种从盐酸气体中脱除和回收二甲基二氯硅烷工艺，它包括二甲基二氯硅烷水解工序（400）和冷冻盐水石墨冷却器（501），其特征是，还包括以下步骤：1）在冷冻盐水石墨冷却器（501）的下游设置一级HCl换冷器（507‑1），气相含二甲基二氯硅烷＜0.99％（mol）的HCl气体（4）冷却至温度＜‑20℃，使二甲基二氯硅烷＜0.5％（mol）的干HCl（5）进入玻璃棉过滤器（502），经过玻璃棉过滤器（502）脱水，将悬浮在HCl气相中的>90％（wt）浓酸雾滴和二甲基二氯硅烷小液珠滤除，并聚集成大液滴靠重力滑落到的玻璃棉过滤器（502）下部的收集槽中，经过滤得到二甲基二氯硅烷＜0.5％（mol）的干HCl（5）中含H₂O＜100ppm（wt）；2）二甲基二氯硅烷＜0.5％（mol）的干HCl（5）进入二甲基二氯硅烷吸收塔（504）内置金属丝网波纹填料，过冷后的液体CH₃Cl与干HCl在金属丝网波纹填料表面逆流接触，液体CH₃Cl不断挥发，温度随之迅速降低，液体CH₃Cl的挥发提供了大量的冷温，使出塔气HCl主体温度降至＜‑35℃，吸收剂温度＜‑50℃，二甲基二氯硅烷溶解在吸收剂中使吸收液温度升高，伴随着二甲基二氯硅烷被吸收多余的热量，使一部分液体CH₃Cl蒸发到气相中，脱除二甲基二氯硅烷后的干HCl（6）含有CH₃Cl＜2.3％（mol），二甲基二氯硅烷＜0.01～0.02％（mol）经过一级HCl换冷器（507‑1）和二级HCl换冷器（507‑2）换热后送到CH₃Cl合成反应釜；3）从二甲基二氯硅烷吸收塔（504）塔釜排出液与一级液体CH₃Cl过冷器（509‑1）换冷后进入精馏塔（505）的中段，精馏塔（505）设有上、下两段填料，上段填料喷洒新鲜液体CH₃Cl（8），将二甲基二氯硅烷＜0.1％（wt）由精馏塔出口气（11）送入循环CH₃Cl压缩机，吸收液通过下段填料精馏使精馏塔（505）含有二甲基二氯硅烷>99.9％（wt）、CH₃Cl＜0.1％（wt）的釜液经水冷后，由二甲基二氯硅烷返回泵（503）送往二甲基二氯硅烷水解工序（400）。