[发明专利]一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法

摘要

本发明提出一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于包括如下步骤1）上载基底至工件台，上载具有可确定最佳焦面标记的掩模至掩模台；2）保持工件台Y向位置不变，利用干涉仪控制工件台在Z向上步进n次，工件台每步进一次，在X向同样步进一个步距，将掩模上所述标记曝光至基底上；3）n个高度曝光完毕后，工件台Y向步进一个步距，重复步骤2），直到曝光完整个基底，共曝光m组标记；4）将基底显影、烘干，再次上载到工件台上，读取n×m个标记的对准位置；5）根据所述对准位置计算标记的对准偏移量，根据对准偏移量与离焦量的关系计算得出每个Y向位置处yi的最佳焦点位置BF，则最佳焦点位置的变化量，其中，F‑T为工件台位置；6）根据m个位置yi和对应的镜面实际位置距离名义位置距离Δhi，拟合所述反射镜面形，其中，。

主权项

一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法，其特征在于包括如下步骤：1）上载基底至工件台，上载具有可确定最佳焦面标记的掩模至掩模台；2）保持工件台Y向位置不变，利用干涉仪控制工件台在Z向上步进n次，工件台每步进一次，在X向同样步进一个步距，将掩模上所述标记曝光至基底上；3）n个高度曝光完毕后，工件台Y 向步进一个步距，重复步骤2），直到曝光完整个基底，共曝光m组标记；4）将基底显影、烘干，再次上载到工件台上，读取n×m个标记的对准位置；5）根据所述对准位置计算标记的对准偏移量，根据对准偏移量与离焦量的关系计算得出每个Y向位置处yi的最佳焦点位置BF，则最佳焦点位置的变化量，其中，P为工件台位置；6）根据m个位置yi和对应的镜面实际位置距离名义位置距离Δhi，拟合所述反射镜面形，其中，。