[发明专利]通过测量光性质来进行的闭环控制在审
| 申请号： | 201380078205.5 | 申请日： | 2013-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105378569A | 公开（公告）日： | 2016-03-02 |
| 发明（设计）人： | F·施纳朋伯格;A·赫尔米希 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G05B19/042 | 分类号： | G05B19/042 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述一种用于处理基板、特别是用于处理大面积基板的设备和方法。用于处理大面积基板的方法包括：以一传输速度传输处于基本上竖直地布置的状态的大面积基板通过用于处理大面积基板的设备的腔室布置；使用用于处理大面积基板的设备的处理装置来处理大面积基板；使用测量布置监测所述基本上竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质，其中所述基本上竖直地布置的大面积基板用漫射光来照射；以及基于所述大面积基板的所述监测到的至少一个光学性质来控制至少一个工艺参数。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 测量 性质 进行 闭环控制 | ||
【主权项】：
一种用于处理大面积基板的方法，所述方法包括：‑以一传输速度传输(151)处于基本上竖直地布置的状态的大面积基板通过用于处理大面积基板的设备的腔室布置；‑使用用于处理大面积基板的所述设备的处理装置来处理(152)所述大面积基板；‑使用测量布置监测(153)所述基本上竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质，其中所述基本上竖直地布置的大面积基板用漫射光来照射；以及‑基于所述大面积基板的所述监测到的至少一个光学性质来控制(154)至少一个工艺参数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380078205.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
