[发明专利]确定光刻中基板的位置有效
| 申请号： | 201380068339.9 | 申请日： | 2013-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN104885014A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | G.德博尔;N.弗吉尔 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01J37/304;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 高巍 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括光学位置标记(100)的基板(12，513)，该标记用于以光学记录头(500)读出以发射具有预确定波长的光，优选地为红色或红外线光，尤其为具有635nm的光，该光学位置标记(100)具有标记高度(MH)、标记长度(ML)和在该基板(12，513)上预确定的已知位置，该光学位置标记(100)沿纵向方向(x)延伸并且被布置成用于改变该位置标记(100)沿所述纵向方向(x)的反射系数，其中该光学位置标记(100)包括：第一区域(101)，其具有第一反射系数和第一宽度(W)；第二区域(102)，其与第一区域(101)相邻并形成第一区域对(105)，该第二区域(102)具有第二反射系数和第二宽度(W)，并且第二反射系数与第一反射系数不同，其中该第一区域(101)包括相对于预设定波长光的波长的次波长结构(SWS)。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 光刻 中基板 位置 | ||
【主权项】：
一种基板(12，513)，其包括光学位置标记(100)，所述光学位置标记用于通过光学记录头(500)读出，以发射预确定波长的光，所述光优选地为红光或红外光，尤其为635nm的光，所述光学位置标记(100)具有标记高度(MH)、标记长度(ML)以及在所述基板(12，513)上的预确定已知位置，所述光学位置标记(100)沿纵向方向(x)延伸并被布置成用于改变所述位置标记(100)沿所述纵向方向(x)的反射系数，其中所述光学位置标记(100)包括：第一区域(101)，其具有第一反射系数和第一宽度(W)；第二区域(102)，其与所述第一区域(101)相邻，并且形成第一区域对(105)，所述第二区域(102)具有第二反射系数和第二宽度(W)，并且所述第二反射系数与所述第一反射系数不同，其中所述第一区域(101)包括与所述预确定波长的光的波长相比较的次波长结构(SWS)。
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