[发明专利]陶瓷分离膜结构体及其修补方法在审
| 申请号： | 201380057384.4 | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN104768633A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 宫原诚;市川真纪子 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D65/10 | 分类号： | B01D65/10;B01D71/02;C04B38/00;C04B41/85 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 李晓 |
| 地址： | 日本国爱知县名*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种陶瓷分离膜结构体及其修补方法，该陶瓷分离膜结构体的成膜在陶瓷多孔质体上的沸石分离膜经过了修补。陶瓷分离膜结构体中，沸石分离膜33配置在陶瓷多孔质体9上，通过含有与沸石分离膜33的沸石结构不同的结构的沸石的沸石修补部34，修补沸石分离膜33的缺陷。沸石分离膜33及沸石修补部34是SiO2/Al2O3＝100以上的疏水性沸石。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 分离 膜结构 及其 修补 方法 | ||
【主权项】：
一种陶瓷分离膜结构体，其含有：陶瓷多孔质体，沸石分离膜，其配置在所述陶瓷多孔质体上，沸石修补部，其析出在所述陶瓷多孔质体的未被所述沸石分离膜覆盖的表面露出的缺陷部上、含有与所述沸石分离膜的沸石不同结构沸石；所述沸石分离膜及所述沸石修补部是SiO2/Al2O3＝100以上的疏水性沸石。
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