[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法有效
| 申请号： | 201380047642.0 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN104619433A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌;W-J·文 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | B09B3/00 | 分类号： | B09B3/00;C09K3/14;C02F11/00 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。所述含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除含氧化硅(SiO2)杂质；对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥；以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下，对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 磨料 再生 方法 | ||
【主权项】：
一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除含氧化硅杂质；对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥；以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下，对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。
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