[发明专利]基板盒清洗装置有效
申请号: | 201380047116.4 | 申请日: | 2013-09-13 |
公开(公告)号: | CN104620361B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 坂下俊也 | 申请(专利权)人: | 修谷鲁电子机器股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B08B3/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 能够以避免附着于暴露在外部空气中的外部容器处的污染物质将内部容器污染的方式对二者进行清洗,实现清洗精度的提高。在未设置基板的状态下对基板盒(C)进行清洗,所述基板盒(C)具备内部容器(N),其内部容纳基板;和外部容器(M),其内部容纳内部容器(N),并且,具备室(10),所述室(10)形成洁净的空间,在室(10)内设置有第一清洗槽(40),其在将外部容器(M)的外部底座(Mb)和外部壳(Ms)各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件;和第二清洗槽(50),其在将内部容器(N)的内部底座(Nb)和内部壳(Ns)各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件,并且具备搬送机构,所述搬送机构将这些各部件搬送到对应的第一清洗槽(40)和第二清洗槽(50)中。 | ||
搜索关键词: | 基板盒 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种基板盒清洗装置,其在未设置基板的状态下对基板盒进行清洗,该基板盒具备:内部容器,其由内部底座和覆盖该内部底座的内部壳构成,并且在内部容纳上述基板;和外部容器,其由对该内部容器的内部底座进行支承的外部底座和覆盖该外部底座的外部壳构成,并且在内部容纳该内部容器,其中,该基板盒清洗装置具备:室,其形成洁净的空间;第一清洗槽,其设置在该室内,在将上述外部容器的外部底座和外部壳各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件;第二清洗槽,其设置在上述室内,在将上述内部容器的内部底座和内部壳各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件;和搬送机构,其将上述外部容器和上述内部容器的各部件相对于对应的上述第一清洗槽和上述第二清洗槽进行搬送。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造