[发明专利]基板盒清洗装置在审
申请号: | 201380047112.6 | 申请日: | 2013-09-13 |
公开(公告)号: | CN104620360A | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 坂下俊也 | 申请(专利权)人: | 修谷鲁电子机器股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 能够防止在基板盒被清洗后污染物质从把持柄转移而污染基板盒的情况。在未设置基板的状态下对容纳基板的基板盒(C)进行清洗,具备室(10),所述室(10)形成洁净的空间,在室(10)内具备清洗槽(40、50),所述清洗槽(40、50)在将基板盒(C)的各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件,具备搬送机构(60),所述搬送机构(60)利用把持柄(70)把持基板盒(C)的各部件而将这些部件相对于清洗槽(40、50)进行搬送,在清洗基板盒(C)时使把持柄(70)在室(10)内的待机位置(Q)处待机,设置有清洗单元(80),在清洗各部件时所述清洗单元(80)对把持柄(70)进行清洗。清洗单元(80)构成为具备:喷射嘴(81),其对把持柄(70)喷射气体;和排气扇(82),其将气体从室(10)内排出。 | ||
搜索关键词: | 基板盒 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种基板盒清洗装置,其在未设置基板的状态下对基板盒进行清洗,该基板盒具备底座和覆盖该底座的壳,并且在内部容纳上述基板,其中,该基板盒清洗装置具备:室,其形成洁净的空间;清洗槽,其设置在该室内,在将上述基板盒的底座和壳各部件分离的状态下容纳并清洗这些部件;搬送机构,其利用把持柄把持上述基板盒的各部件而将这些部件相对于清洗槽进行搬送;以及清洗单元,在清洗上述基板盒时使上述把持柄在室内的待机位置处待机,在清洗上述各部件时该清洗单元对上述把持柄进行清洗。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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