[发明专利]含氟化合物、图案形成用基板、光分解性偶联剂、图案形成方法、化合物有效
| 申请号： | 201380045709.7 | 申请日： | 2013-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN104640871B | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 山口和夫 | 申请（专利权）人： | 学校法人神奈川大学;株式会社尼康 |
| 主分类号： | C07F7/18 | 分类号： | C07F7/18;C07C49/84;C07C205/37;C07C205/45;C09K3/00;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 丁香兰,庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种含氟化合物，其特征在于，其由下述通式(1)表示。[通式(1)中，X表示卤原子或烷氧基，R1表示碳原子数为3～10的支链状或环状的烷基，Rf1和Rf2为氟化烷氧基。n表示0以上的整数。][化1] | ||
| 搜索关键词： | 氟化 图案 形成 用基板 分解 性偶联剂 方法 化合物 | ||
【主权项】：
一种含氟化合物，其特征在于，其由下述通式(1)表示，[化1]通式(1)中，X表示卤原子或甲氧基，R1表示碳原子数为3～10的支链状或环状的烷基，Rf1和Rf2是‑O‑(CH2)3(CF2)3CF3、‑O‑(CH2)3(CF2)4CF3、‑O‑(CH2)4(CF2)4CF3、‑O‑(CH2)4(CF2)5CF3或‑O‑(CH2)2(CF2)3CF3，n表示0以上的整数。
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