[发明专利]用于超光滑抛光的磁流变流体有效
| 申请号： | 201380038308.9 | 申请日： | 2013-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104487204B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | W.科顿斯基;S.戈罗德金;E.奥斯瓦尔德 | 申请（专利权）人： | QED技术国际股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于基板表面的磁流变超光滑抛光的磁流变流体，包含含水载体载剂；第一量的平均直径为1微米到2微米的磁性颗粒；以及第二量的平均直径为小于1纳米到15纳米的研磨剂颗粒。所述流体可进一步包含化学稳定剂。优选地，所述磁性颗粒的尺寸比所述研磨剂颗粒的尺寸大2至3个数量级。优选地，所述磁性颗粒是球形的且包括羰基铁，且优选地，所述研磨剂颗粒选自氧化铝、氧化锆、氧化铈、二氧化硅、碳化硼、碳化硅、天然金刚石、人造金刚石、以及它们的组合。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光滑 抛光 流变 流体 | ||
【主权项】：
用于基板表面的磁流变超光滑抛光的磁流变流体，包含：含水载体载剂；第一量的具有第一平均直径的磁性颗粒；以及第二量的具有第二平均直径的研磨剂颗粒，其中，所述第二平均直径为1纳米到10纳米，其中所述第一平均直径比所述第二平均直径大2至3个数量级。
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