[发明专利]针对极紫外线光罩的临界尺寸均匀性监测

摘要

本发明揭示用于促进使用光学检验工具检验样本的方法及设备。使用光学检验工具从EUV光罩获得指定跨越所述EUV光罩的强度变化的光学图像或信号，且将此强度变化转换为移除了杂散光校正CD变化的CD变化，以便产生不具有所述杂散光校正CD变化的临界尺寸均匀性CDU图谱。此经移除的杂散光校正CD变化起源于用于制作所述EUV光罩的设计数据，且此杂散光校正CD变化通常经设计以在光学光刻工艺期间补偿存在于光学光刻工具的视场FOV内的杂散光差异。将所述CDU图谱存储于例如所述检验工具或光学光刻系统的一或多个存储器装置中及/或显示于所述检验工具或光学光刻系统的显示装置上。

主权项

一种使用光学检验工具检验极紫外线EUV光罩的方法，所述方法包括：借助光学检验工具从EUV测试光罩获得光学测试图像或信号，其中所述光学测试图像或信号指定跨越所述EUV测试光罩的强度变化；将所述光学测试图像或信号的所述强度变化转换为跨越所述EUV测试光罩的临界尺寸CD变化以便产生临界尺寸均匀性CDU图谱，其中所述CDU图谱是通过移除起源于用于制作此EUV测试光罩的设计数据的校正CD变化而产生，且此校正CD变化经设计以在光学光刻工艺期间补偿存在于光学光刻工具的视场FOV内的差异；以及将所述CDU图谱存储于一或多个存储器装置中或将所述CDU图谱显示于显示装置上。