[发明专利]微粒测量装置中的数据校正方法和微粒测量装置有效
申请号: | 201380028501.4 | 申请日: | 2013-04-03 |
公开(公告)号: | CN104321635B | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 新田尚;今西慎悟;竹内太一 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G01N15/14 | 分类号: | G01N15/14;G01N21/49;G01N21/64 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种技术,据此通过有效地校正由微粒的流道中的流动位置的不一致引起的测量误差能够高精确度地测量荧光和散射光的强度和光谱。提供一种微粒测量装置中的数据校正方法,包括:强度检测过程,允许通过将光照射在流过流道的微粒上来检测从微粒发射的光以获取光的强度信息;位置检测过程,用于获取微粒的位置信息;以及校正过程,用于基于位置信息校正强度信息。在数据校正方法的位置检测过程中,检测器接收从微粒发射的散射光中分离的像散S偏振分量,使得S偏振分量在检测器中的接收位置被获取为位置信息。 | ||
搜索关键词: | 微粒测量装置 数据校正 检测器 位置检测过程 强度信息 散射光 流道 测量荧光 基于位置 接收位置 流动位置 强度检测 校正过程 信息校正 发射 不一致 光照射 有效地 光谱 像散 校正 测量 检测 | ||
【主权项】:
一种用于微粒测量装置的数据校正方法,包括:强度检测过程,能够通过将光发射到流过流道的微粒上来检测从所述微粒产生的光,并且获得关于所述光的强度信息;位置检测过程,能够获得关于所述微粒的位置信息;以及校正过程,用于基于所述位置信息校正所述强度信息,其中,在所述位置检测过程中,获得关于所述微粒在X轴方向上的位置信息和关于所述微粒在垂直于所述X轴方向和Y轴方向的Z轴方向上的位置信息作为所述位置信息,所述X轴方向是光到所述微粒的发射方向,所述Y轴方向是所述微粒的流动方向,其中,在所述位置检测过程中,检测装置接收从由所述微粒产生的散射光中分离并被赋予了像散的S偏振分量的光,并且获得所述S偏振分量在所述检测装置上的光接收位置作为所述位置信息,其中,在所述位置检测过程中,所述检测装置使用光接收表面被分为多个区域的检测装置,其中,所述检测装置采用光接收表面被以格状方式分为区域A、区域B、区域C和区域D的四个区域的检测装置,以及从所述区域A和与所述区域A不相邻的所述区域C中的检测值的差分Δ1(A‑C)获得关于所述微粒在所述Z轴方向上的所述位置信息。
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