[发明专利]制造用于背光单元的光学器件的方法以及通过该方法制造的光学器件和光学器件阵列有效
申请号: | 201380024644.8 | 申请日: | 2013-05-09 |
公开(公告)号: | CN104302964B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 安范模;朴胜浩;南基明 | 申请(专利权)人: | 普因特工程有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H05K1/18;H05K3/34 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人: | 张春媛,阎娬斌 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及制造用于背光单元的光学器件的方法,以及由该方法制造的光学器件和光学器件阵列,其中,构成光学器件阵列的光学器件芯片中的每一个都在印刷电路板以下述方式侧躺光可以在侧向方向上从光学器件芯片中发射出来,从而降低背光单元的总厚度。根据本发明的第一特征,提供了一种制造用于背光单元的光学器件的方法,该方法包括步骤(a)制备垂直绝缘层插入其间的原始基板;步骤(b)将原始基板部分切割至距其上表面预定深度,从而切割部分至少与垂直绝缘层正交,并且暴露将形成用于焊接的镀层的区域;步骤(c)执行镀敷;步骤(d)将光学器件芯片安装在多个芯片基板区域上,这些芯片基板区域被划分以包括垂直绝缘层;及步骤(e)切割各个芯片基板区域。本发明涉及制造用于背光单元的光学器件的方法,以及由该方法制造的光学器件和光学器件阵列,其中,构成光学器件阵列的光学器件芯片中的每一个都在印刷电路板以下述方式侧躺光可以在侧向方向上从光学器件芯片中发射出来,从而降低背光单元的总厚度。 | ||
搜索关键词: | 制造 用于 背光 单元 光学 器件 方法 以及 通过 阵列 | ||
【主权项】:
一种制造用于背光单元的光学器件的方法,该方法包括下述步骤:(a)形成铝锭,其中通过键合多个插入到绝缘层之间的具有预定深度的铝板,将多个垂直绝缘层间隔地布置在所述铝锭中;(b)通过垂直地切割所述铝锭以包括所述垂直绝缘层,并且切割所述铝锭使得多个垂直绝缘层间隔地平行布置,从而制备原始芯片基板;(c)将所述原始基板部分切割至距所述原始基板上表面的预定深度,从而切割部分至少与所述多个垂直绝缘层正交,并且暴露将形成用于焊接的镀层的区域;(d)执行镀敷,以至少在部分切割区域上形成镀层;(e)将光学器件芯片安装在多个芯片基板区域上,所述多个芯片基板区域被划分以包括所述垂直绝缘层;及(f)切割各个芯片基板区域,其中完全切割所述部分切割区域,同时沿着与所述垂直绝缘层平行的方向切割所述原始芯片基板,以使得芯片基板具有预定长度。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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