[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统有效
| 申请号： | 201380020363.5 | 申请日： | 2013-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN104246616B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | I.萨恩杰;F.施勒塞纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中该第一反射表面(110,210,...)和该第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；其中在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光与该第一反射表面形成45°±5°的角度；及其中该偏振影响布置(100,200,...)可绕着旋转轴(A)旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光的光传播方向延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 光学系统 | ||
【主权项】：
一种在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：·至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中，所述第一反射表面(110,210,...)和所述第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；·其中，在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光与所述第一反射表面形成45°±5°的角度；及·其中，所述偏振影响布置(100,200,...)可绕着旋转轴旋转，所述旋转轴平行于在所述光学系统运行期间入射在所述第一反射表面(110,210,...)上的光的光传播方向延伸。
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