[发明专利]开环易位聚合物氢化物的制造方法及树脂组合物

摘要

本发明涉及一种开环易位聚合物氢化物的制造方法、以及含有通过该制造方法得到的开环易位聚合物氢化物的树脂组合物。所述开环易位聚合物氢化物的制造方法包括：使环状烯烃在聚合催化剂存在下进行开环易位聚合，然后，将生成的开环易位聚合物的碳-碳双键的至少一部分氢化。该方法的特征在于，使用选自下述式(I)、(II)、(III)、(IV)中的至少一种钌化合物作为所述聚合催化剂。根据本发明，能够提供尤其是能够以工业上有利的方式制造透光率优异的开环易位聚合物氢化物的方法。

主权项

一种开环易位聚合物氢化物的制造方法，其包括：使环状烯烃在聚合催化剂的存在下进行开环易位聚合，然后，将生成的开环易位聚合物的碳‑碳双键的至少一部分氢化，在该方法中，作为所述聚合催化剂，使用选自下述式(I)、(II)、(III)、(IV)中的至少一种钌化合物，式中，X1～X8各自独立地表示卤原子或‑O‑(C＝O)‑Ra所示的基团，Ra表示任选具有取代基的C1‑C20烷基，L1～L5各自独立地表示给电子性的化合物配体，R0表示氢原子、卤原子、硝基、氰基、C1‑C20烷基、C1‑C20烷氧基、C1‑C20烷硫基、三C1‑C20烷基甲硅烷基、三C1‑C20烷基甲硅烷氧基、任选具有取代基的C6‑C20芳基、任选具有取代基的C6‑C20芳氧基、任选具有取代基的C2‑C20杂环基、C1‑C20烷基磺酰基、C1‑C20烷基亚磺酰基、甲酰基、C1‑C20烷基羰基、C1‑C20烷氧基羰基、二C1‑C20烷基氨基甲酰基、二C1‑C20烷基脲基、或C1‑C20烷基磺酰胺基，R1表示式:(Rb1)(Rb2)NSO2‑所示的基团、甲酰基、C1‑C20烷基羰基、C1‑C20烷氧基羰基、式:(Rc1)(Rc2)NCO‑所示的基团、酰胺基、卤原子、二C1‑C20烷基脲基、或C1‑C20烷基磺酰胺基，Rb1、Rc1表示氢原子、C1‑C20烷基或任选具有取代基的芳基，Rb2、Rc2表示氢原子、C1‑C20烷基、任选具有取代基的芳基、或式:G‑D‑所示的基团，且式:G‑D‑中，D表示连结基团、G表示高分子主链，另外，Rb1与Rb2、Rc1与Rc2分别可以共同键合而形成环，R2、R3、R5、R6、R7、R10、R11、R12各自独立地表示氢原子、卤原子、C1‑C20烷基、C1‑C20烷氧基、C1‑C20烷硫基、三C1‑C20烷基甲硅烷氧基、C6‑C20芳氧基、C6‑C20芳基、C2‑C20杂环基、C1‑C20烷氧基羰基、二C1‑C20烷基氨基甲酰基、二C1‑C20烷基脲基、或C1‑C20烷基磺酰胺基，R4、R8、R9、R13、R14、R15、R16各自独立地表示氢原子、C1‑C20烷基、C1‑C20烷氧基、C1‑C20烷硫基、三C1‑C20烷基甲硅烷基、三C1‑C20烷基甲硅烷氧基、任选具有取代基的C6‑C20芳基、任选具有取代基的C6‑C20芳氧基、任选具有取代基的C2‑C20杂环基、C1‑C20烷基磺酰基、C1‑C20烷基亚磺酰基、C1‑C20烷基羰基、C1‑C20烷氧基羰基、二C1‑C20烷基氨基甲酰基、二C1‑C20烷基脲基、C1‑C20烷基磺酰胺基、或任选被卤原子取代的C6‑C20芳基羰基，Y1、Y2各自独立地表示氧原子、硫原子、NRb或PRb，Rb表示氢原子或C1‑C20烷基，Z表示式:‑C(Rb)(Rc)‑所示的基团、或羰基，且式:‑C(Rb)(Rc)‑中，Rb、Rc各自独立地表示氢原子、C1‑C6烷基、或卤代C1‑C6烷基。