[实用新型]成膜装置有效
| 申请号： | 201320832887.1 | 申请日： | 2013-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN203678610U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 塚原大祐;鹈饲贵司;西胁谦一郎;长滨利一 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/00 | 分类号： | B05C5/00;B05C11/00;B05C11/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种成膜装置。该成膜装置能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。该成膜装置包括载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构，载物台用于放置基材；涂覆构件包括泵和与泵相连的喷嘴；涂覆构件以喷嘴对着载物台的方式支承在支架上，并能够在支架上调整位置；位移计用于检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定膜的厚度；膜厚控制机构用于控制所涂覆的膜的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，其特征在于，包括：载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构；所述载物台用于放置基材；所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴；所述涂覆构件以所述喷嘴对着所述载物台的方式支承在所述支架上，并能够在所述支架上调整位置；所述位移计用于检测所述喷嘴与从所述喷嘴涂覆于所述基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定所述膜的厚度；所述膜厚控制机构用于控制所涂覆的所述膜的厚度。
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