[实用新型]一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置有效

专利信息
申请号: 201320765360.1 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN203674241U 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 许文凤;闫新春;陈龙;郭兴刚;张满良;梁汉杰 申请(专利权)人: 奥特斯维能源(太仓)有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/22
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 刘燕娇
地址: 215434 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置,它包括:进气装置、石英管、排废管、匀流板和石英舟,所述的石英管上固设有进气装置,石英管的底部设有排废管,排废管的上部设有匀流板,匀流板的右部设有石英舟,该装置减少了硅片片内方阻梯度,提高扩散方阻的片内均匀性,并通过改善扩散后硅片方阻的均匀性,减小印刷烧结后接触电阻的大小,从而提升电池片效率。
搜索关键词: 一种 提升 硅片 扩散 均匀 装置
【主权项】:
一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置,其特征在于:它包括:进气装置(1)、石英管(2)、排废管(3)、匀流板(4)和石英舟(5),所述的石英管(2)上固设有进气装置(1),石英管(2)的底部设有排废管(3),排废管(3)的上部设有匀流板(4),匀流板(4)的右部设有石英舟(5);所述的石英舟(5)由舟齿(51)、舟板(52)和舟底杆(53)组成,舟板(52)通过和舟底杆(53)上设有的舟齿(51)固设在舟底杆(53)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥特斯维能源(太仓)有限公司,未经奥特斯维能源(太仓)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320765360.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top