[实用新型]一种湿法刻蚀的切水装置有效
申请号: | 201320760571.6 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN203674239U | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 庞瑞卿;展士飞;叶超;桑和伟 | 申请(专利权)人: | 合肥海润光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 刘燕娇 |
地址: | 230000 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公布了一种湿法刻蚀的切水装置,包括至少一对上下垂直安装的滚轮,所述滚轮整体外径相同,所述上下滚轮之间留有间隙,所述滚轮的两端安装有卡槽,所述上下滚轮的转动方向相反,转动速率相同,所述切水装置水平方向至少设有一个滚轮,所述水平方向的滚轮间的间距相等。本实用新型的湿法刻蚀的切水装置,相较于现有的湿法刻蚀采用的风刀切水装置而言,具有以下优点:切水滚轮不需要压缩空气,硅片无压力,大大降低了碎片及堵片的风险;硅片表面的药液受到滚轮的阻挡,从硅片表面流入下槽,不会带入后面的槽体内,实现了化学反应的隔离;柱形切水滚轮表面一定的微结构处理,或者借助外面包裹一层多孔状泡沫,保证了硅片经过时不会打滑。 | ||
搜索关键词: | 一种 湿法 刻蚀 装置 | ||
【主权项】:
一种湿法刻蚀的切水装置,其特征在于:所述切水装置包括至少一对上下垂直安装的滚轮,所述滚轮整体外径相同,所述上、下滚轮(2、5)之间留有间隙,所述滚轮的两端安装有卡槽,所述上、下滚轮(2、5)分别装有上、下传动齿轮(3、6),所述的上、下传动齿轮(3、6)转动方向相反,转动速率相同,所述切水装置水平方向至少设有一个滚轮,所述水平方向的滚轮间的间距相等。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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