[实用新型]半导体器件有效
申请号: | 201320634544.4 | 申请日: | 2013-10-15 |
公开(公告)号: | CN203521421U | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | J·瓦韦罗;P·莫恩斯;Z·侯赛因 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种半导体器件,提供了改进的电荷耗尽性质的超结凹槽。半导体器件包括:第一导电类型的半导体基板;覆盖于所述半导体基板上的第一导电类型的第一半导电层;以及包括一个或更多个第一超结凹槽的边缘终端结构,第一超结凹槽的每个包括:第二导电类型的第一半导电区;与第一半导电区相邻的第二半导电区,第二半导电区具有与第二导电类型不同的第三导电类型;与第二区相邻的第一缓冲区;与第一缓冲区相邻的第三半导电区,第三半导电区具有第三导电类型;与第三区相邻的第四半导电区,第四区具有第二导电类型;以及将第二区电耦接至第三区的第一导电区。实施性取得了本实用新型相应的有利技术效果。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于包括:第一导电类型的半导体基板;覆盖于所述半导体基板上的所述第一导电类型的第一半导电层;以及包括一个或更多个第一超结凹槽的边缘终端结构,其中所述第一超结凹槽的每个包括:具有第二导电类型的第一半导电区;与所述第一半导电区相邻的第二半导电区,其中所述第二半导电区具有与所述第二导电类型不同的第三导电类型;与所述第二区相邻的第一缓冲区;与所述第一缓冲区相邻的第三半导电区,其中所述第三半导电区具有所述第三导电类型;与所述第三区相邻的第四半导电区,其中所述第四区具有所述第二导电类型;以及将所述第二区电耦接至所述第三区的第一导电区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体元件工业有限责任公司,未经半导体元件工业有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320634544.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:健身器具
- 下一篇:一种便携式充气泵壳体结构
- 同类专利
- 专利分类