[实用新型]一种多靶位磁控溅镀机有效
申请号: | 201320616366.2 | 申请日: | 2013-10-08 |
公开(公告)号: | CN203559118U | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 谢河兵 | 申请(专利权)人: | 昆山信光泰光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 顾进 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种多靶位磁控溅镀机,所述多靶位磁控溅镀机由包含上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室在内的多个真空室水平连接而成;所述真空室内设有传送机构,传送机构上设有载具;所述电浆清洁室内配备有射频电浆产生器;所述第一溅镀室与第二溅镀室内部均设有多个电浆发射台;所述每台电浆发射台包含有多组ADL直流电浆源输出装置;所述上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室均配备有至少一台排气装置;设置有多个溅镀室,使得产品的溅镀距离得以增加,提高了溅射镀膜的质量;在溅镀室之前设有溅射前缓冲室,可以确保产品全段均受到溅射镀膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 多靶位磁控溅镀机 | ||
【主权项】:
一种多靶位磁控溅镀机,其特征在于,所述多靶位磁控溅镀机由包含上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室在内的多个真空室水平连接而成;所述真空室内设有传送机构,传送机构上设有载具;所述电浆清洁室内配备有射频电浆产生器;所述第一溅镀室与第二溅镀室内部均设有多个电浆发射台;所述每台电浆发射台包含有多组ADL直流电浆源输出装置;所述上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室均配备有至少一台排气装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山信光泰光电科技有限公司,未经昆山信光泰光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320616366.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:供给容器装置
- 下一篇:贴标装置及其贴标方法
- 同类专利
- 专利分类