[实用新型]一种磁控溅镀机的多靶位溅射腔有效
| 申请号： | 201320616358.8 | 申请日： | 2013-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN203559117U | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 谢河兵 | 申请（专利权）人： | 昆山信光泰光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 顾进 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅镀机的多靶位溅射腔，所述的溅射腔包括上盖板、阴极、靶材和载具传递装置；所述的靶材通过阴极固定连接在上盖板上，所述的载具传递装置设置在上盖板的正下方，所述的上盖板上设有多个靶材，相邻的靶材之间的上盖板上设有L型挡板结构；本实用新型结构简单，通过相邻靶材之间设有的L型防护挡板结构，能够有效的阻隔污染源侵蚀其他点位的靶材，使其污染程度得到了有效的控制，节约了靶材的使用成本，同时提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅镀机 多靶位 溅射 | ||
【主权项】：
一种磁控溅镀机的多靶位溅射腔，所述的溅射腔包括上盖板、阴极、靶材和载具传递装置；所述的靶材通过阴极固定连接在上盖板上，所述的载具传递装置设置在上盖板的正下方，其特征在于，所述的上盖板上设有多个靶材，相邻的靶材之间的上盖板上设有L型挡板结构。
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