[实用新型]防止气管堵塞的装置有效
申请号: | 201320588430.0 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN203474891U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 徐磊;张恒;姜志磊;李志超;傅晓斌 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 实用新型提出一种防止气管堵塞的装置,包括:反应腔室,与反应腔室侧壁相连的第一气管,与反应腔室底部相连的排气管路,与排气管路侧壁相连的第二气管,与排气管路相固定的隔离装置;在排气管路上安装隔离装置,当第二气管中的气体需要排出时,隔离装置无需动作,第二气管中的气体能够通过排气管路排出,当反应腔室中的气体需要排出时,隔离装置动作,将第二气管与排气管路隔离开,防止反应腔室中的气体进入第二气管中并与第二气管中残留的气体发生反应,避免在第二气管中形成粉末堵塞第二气管。 | ||
搜索关键词: | 防止 气管 堵塞 装置 | ||
【主权项】:
一种防止气管堵塞的装置,其特征在于,所述装置包括:反应腔室、第一气管、第二气管、隔离装置和排气管路,其中,所述第一气管与所述反应腔室的侧壁相连,所述第二气管与所述排气管路的侧壁相连,所述排气管路与所述反应腔室底部相连,所述隔离装置与所述排气管路相固定。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的