[实用新型]研磨垫调整器及研磨装置有效
申请号: | 201320557966.6 | 申请日: | 2013-09-09 |
公开(公告)号: | CN203438064U | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 邓武锋 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提出了一种研磨垫调整器及研磨装置,用于对研磨垫进行平整化处理,包括:外框,设于外框内的调整头,并使调整头与研磨垫相对的表面暴露出,设于调整头与研磨垫相对表面上的毛刷,调整头设有毛刷的表面还设有若干小孔,设于调整头内并贯穿调整头的入液管,设于调整头和外框内并与小孔连通的排液管;在对研磨垫进行平整化处理时,由入液管充入一定的液体或气体至研磨垫的表面,结合毛刷对研磨垫的洗刷,能够去除残留在研磨垫表面的残留物,同时残留物能够随着液体和气体从排液管排出,从而能够避免残留物聚积在所述研磨垫的表面,防止对半导体晶圆进行刮伤。 | ||
搜索关键词: | 研磨 调整器 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨垫调整器,用于对研磨垫进行平整化处理,其特征在于,所述研磨垫调整器包括:外框、调整头、入液管、排液管以及毛刷;其中,所述调整头设于所述外框内,并使所述调整头与研磨垫相对的表面暴露出,所述毛刷设于所述调整头与所述研磨垫相对的表面上,所述调整头设有毛刷的表面还设有若干小孔,所述入液管设于所述调整头内,并贯穿所述调整头设有毛刷的表面以及与设有毛刷表面平行的另一表面,所述排液管设于所述调整头和外框内,并与所述小孔连通。
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